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　　觀察光學鍍膜機靶陰極電弧的燃燒情況，每當電弧熄滅前，能發(fā)現(xiàn)電弧弧斑比較粗糙。有時甚至出現(xiàn)堆團狀弧斑。熄滅后觀察靶面已發(fā)紅，靶表面溫度很高。粗糙弧斑的出現(xiàn)，使弧電流較集中于靶面一點，導致了弧斑下靶面斑點電流過于集中，使弧斑下的靶面溫度很高而產生大量的熱電子發(fā)射。
　　靶面局部大量的熱電子發(fā)射的結果，一方面中和了大量的空間電荷，使陰極表面上的電場成為減速場，甚至導致陰極表面上的電場等于零。另一方面，大量的熱電子發(fā)射對陰極表面產生相當大的冷卻作用。結果既沒有空間電荷產生的很大電場來維持表面發(fā)射，也不具備很高表面溫度來產生熱電子發(fā)射，導致電弧的熄滅。
　　所以在光學鍍膜機多弧靶源的設計中，應注意給陰極靶以充分的冷卻，盡量采用直接水冷，間接水冷時，陰極座等相鄰部件應選用導熱性能良好的材料（如銅、鋁等）。