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真空鍍膜設(shè)備

科技創(chuàng)新為動(dòng)力 專業(yè)服務(wù)為目標(biāo)

多弧離子真空鍍膜機(jī)


  真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機(jī)運(yùn)作的環(huán)境,需要高真空度的設(shè)備,通常我們需要到高真空度,抽氣系統(tǒng)的作用是很重要的,但除了抽氣系統(tǒng)外,在真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行的過程中,還有一點(diǎn)就是,工件的除氣。有些工件它本身內(nèi)部存在著,很多的氣體、水分等,這些物質(zhì)會隨著設(shè)備加熱時(shí),被排放到真空室中,降低了真空度,有些氣體帶有毒性成分,直接損害到真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu),造成設(shè)備不能正常運(yùn)作。
  另外,正在鍍膜過程中,由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹,容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開,當(dāng)然這個(gè)情況出現(xiàn)的機(jī)率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān),像塑料等容易膨脹的,機(jī)率就比較高,像金屬等硬質(zhì)的,機(jī)率就比較低,但也不能忽視,因此工件的除氣是很重要的。